high-k膜の界面構造、結晶化や相分離について分子動力学計算をもちいて解析した論文について紹介する。
high-kゲート絶縁膜のためのナノスケールシミュレーション
カテゴリー: 半導体物理
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フォトルミネッセンス分光のおさらい – ゼロフォノンライン（Zero Phonon Line）-
半導体や絶縁体の光学的特性を調べるときによく登場するのが、フォトルミネッセンス分光です。
PLは、物質に光を照射して発光スペクトルを測定することで、電子構造・欠陥・励起子などの情報を得る手法です。
この記事では、PLの原理からZPLの物理的意味、そしてそれに関連する現象を解説します。
界面を制御して発光特性を調整：MoS₂–GaN（0001）ヘテロ構造の光学応答メカニズム
近年、2次元半導体であるモノレイヤーMoS₂は、その強い励起子によって可視域での優れた発光特性を示すため注目を集めています。一方、GaNは紫外〜青領域の発光材料として広く用いられており、これらを垂直に積層した2D–3Dヘテロ構造は、広帯域の光デバイスや効率的な光吸収体を作るうえで有望です。
FeドープGaNの電子移動度と抵抗率の温度依存性
GaNは青色LEDやパワーデバイスで知られる重要な半導体材料です。鉄をドープしたGaNは、高抵抗の絶縁層として使われ、HEMTなどで欠かせない材料です。
ドーピング濃度に対する抵抗率や温度依存性を理論計算を用いて詳しく解析した論文を紹介します。
SiNx膜の秘密を解く：原子比が左右する光と電気のふるまい
導入 スマートフォンや電気自動車、太陽電池――。これらのデバイスを支えるのは、わずか数マイクロメートルの薄膜材 […]
宇宙でも壊れない半導体？―2次元材料が切り拓く新時代の宇宙エレクトロニクス
人工衛星や探査機など、宇宙で動く機器には極めて過酷な環境が待っています。
強烈な放射線、極端な温度変化、無重力――こうした条件に耐える電子デバイスの開発は、宇宙技術の大きな課題の一つです。
そんな中、中国・清華大学を中心とする研究チームが行った最新研究では、2次元半導体材料（2D材料）が宇宙環境下でも優れた安定性を示すことが明らかになりました。
ポーラロンが支配するMoSe₂/WSe₂ヘテロ構造の励起子発光メカニズム
導入 MoSe₂/WSe₂ヘテロ構造に代表される二次元遷移金属ダイカルコゲナイド（TMD）は、**層間励起子（ […]
第一原理計算（Quantum Espresso）によるフォノン計算
第一原理計算によるフォノン計算についてまとめる。
計算に使用するソフトウェアはQuantum Espressoである。
High-Power GaAs FET Amplifiers
John L.B.編集の”High-Power GaAs FET Amplifiers” […]
GaN中の点欠陥形成エネルギーを計算した論文
GaN中の点欠陥の形成エネルギーや準位を第一原理計算で計算した論文を紹介します。 タイトル：A first-p […]
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